В России тестируется первый литограф с топологией 350 нанометров

Дата публикации: 26 марта 2025, 20:00
Просмотры: 2 519
В России тестируется первый литограф с топологией 350 нанометров

Продукт является результатом сотрудничества России и Беларуси, следующий этап — начало промышленного производства литографа с разрешением 130 нанометров

Фото: телеграм-канал «МашТех» (https://t.me/mash_tech/4307).

В подмосковном Зеленограде разработан первый в России фотолитограф с разрешением 350 нанометров, сообщает телеграм-канал «МашТех».

Сейчас ведётся адаптация техпроцессов к особенностям производства конечного потребителя, а также начата разработка литографа для производства чипов с топологией 130 нм.

Прибор, активнейшим образом используемый в электронике, является продуктом межгосударственной кооперации: он был разработан на базе Зеленоградского нанотехнологического центр (ЗНТЦ) и основанного ещё в 1962 году белорусского научно-производственного комплекса ОАО «Планар».

Фото: телеграм-канал «МашТех».

От зарубежных аналогов российско-белорусский фотолитограф отличается тем, что в качестве излучения используется не ртутная лампа, а твердотельный лазер. Он мощный и энергоэффективный, с высокой долговечностью и более узким спектром. На отечественный фотолитограф уже есть заказчик.

Напомним, что в ноябре 2023 года заместитель Министра промышленности и торговли РФ Василий Шпак проанонсировал начало производства фотолитографа в конце 2024 года. Тогда же Шпак заявил, что в 2026 году будет готов фотолитограф с топологией в 130 нанометров. А микроконтроллеры, силовая электроника, телекоммуникационные схемы, автомобильная электроника, как и многое другое, будет работать исходя из требований технологии и экономики в диапазоне топологических размеров 350-65 нанометров ещё долгие годы, как минимум 10 лет.

В начале сентября 2024 года глава Минпромторга Антон Алиханов рассказал, что с разработкой в 2026 году литографа для работы на топологиях 130 нм, будут развёрнуты работы по разработке литографа, работающего на топологиях 90-65 нанометров.

Фото: телеграм-канал «МашТех».

Авторы телеграм-канала «МашТех» тогда ёрничали: «Топологии 350 нм ведущие мировые компании-производители достигли в 1995-1997 годах, топологии 130 нм — в 2001 году, а только что обещанную Алихановым топологию 65 нм — 20 лет назад, в 2004 году. Увы, отставание катастрофическое и сократить его, как и зависимость от поставок иностранных микросхем, практически невозможно».

Так-то оно так, только есть одно «но». Литографы ранее в России не производились по очень простой причине. С началом экономических реформ и распадом СССР практически вся отечественная микроэлектроника (как научные разработки, так и промышленное производство) рухнули. «Умные люди» и «экономисты» говорили, что всё это самим производить нет смысла, идёт глобализация экономики, поэтому всё необходимое мы и так купим за рубежом.

Жизнь показала, к чему привёл такой подход.

… Кстати, практические работы по разработке отечественного литографа начались, по сути, вчера — в 2023 году. И продолжают идти очень даже неплохими темпами.

Комментарии:

0 0 голоса
Рейтинг статьи
Подписаться
Уведомить о
guest
0 комментариев
Старые
Новые Популярные
Межтекстовые Отзывы
Посмотреть все комментарии
смотреть все

Сейчас читают

Самые популярные новости и события на нашем сайте.

Подпишитесь на нашу рассылку

наверх